TEM、SEM、X射線分析等碳膜形成設(shè)備的碳膜沉積設(shè)備介紹
三臺設(shè)備合二為一
該設(shè)備有兩個獨立的腔室,每個腔室都具有碳氣相沉積、磁控濺射和親水處理功能。一臺設(shè)備配備了我們的 VC-100S、MSP-1S、PIB-10 和 3 種型號的性能。兩個排氣管系統(tǒng)由外部旋轉(zhuǎn)泵的排氣切換。
此外,每個腔室可以獨立進行真空排氣和大氣釋放,腔室可以保持真空。
采用
TEM、SEM、X射線分析等碳膜形成設(shè)備的碳膜沉積設(shè)備。它用于防止樹脂包埋樣品的充電。
離子濺射
SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜設(shè)備。應(yīng)用貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了通過磁控管靶電極進行低壓放電外,樣品臺制成浮動式,以減少由于電子束流入造成的樣品損壞。
親水處理
用于透射電鏡的網(wǎng)格網(wǎng)、膠棉支撐膜、碳支撐膜、其他金剛石刀具等的親水處理,以及油漬的清洗。
用交流放電產(chǎn)生的等離子體離子照射樣品表面。它破壞樣品表面的化學(xué)鍵并形成官能團。因此,活化的樣品表面與水分子之間的化學(xué)鍵得到促進,變成親水的。
此外,通過破壞油漬等化學(xué)鍵,可以獲得去除污漬的效果。
照射強度(軟/硬)可以切換。
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