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densoku各種膜厚儀的原理和特點(diǎn)

  • 發(fā)布日期:2022-12-23      瀏覽次數(shù):625
    • densoku各種膜厚儀的原理和特點(diǎn)

      熒光X射線膜厚儀測(cè)量原理

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      當(dāng)用 X 射線照射物質(zhì)時(shí),會(huì)發(fā)射出具有該物質(zhì)所含元素所*的光譜(波長(zhǎng)、能量)的 X 射線。這些二次 X 射線稱為熒光 X 射線。
      一種物質(zhì)發(fā)出的熒光 X 射線的量取決于該物質(zhì)中所含每種元素的量。
      因此,在基底(基板)上涂有薄膜(鍍層)的樣品的情況下,從薄膜發(fā)射的熒光 X 射線量取決于薄膜的厚度。,可以確定薄膜的厚度準(zhǔn)確。

      熒光X射線涂層測(cè)厚儀的特點(diǎn)

      • 熒光 X 射線根據(jù)金屬的原子序數(shù)而具有不同的能量,利用這種電位差和強(qiáng)度,不僅可以測(cè)量單層膜,還可以測(cè)量雙層、三層膜的膜厚, 和合金薄膜..

      • 通過(guò)縮小X射線的照射范圍,可以測(cè)量微小范圍的膜厚,適用于小型零件的測(cè)量。

      使用示例

      • 鐵鍍鋅膜厚測(cè)量。示例:應(yīng)用于螺栓、螺母等的鍍鋅膜厚度控制。

      • 印刷電路板上Cr/Ni/Cu、Au/Ni/Cu等多層鍍層的厚度測(cè)量

      • Zn-Ni等合金鍍層厚度測(cè)量

      • 其他鍍膜厚度測(cè)量

      電解膜厚度測(cè)量原理

      鍍膜厚度是通過(guò)陽(yáng)極電解法溶解鍍膜來(lái)測(cè)量的,這是一種應(yīng)用規(guī)則測(cè)量鍍層厚度的方法 (陽(yáng)極電解電路見(jiàn)圖1)在鍍膜結(jié)束時(shí),由于測(cè)量部分被恒定電流溶解,膜金屬消失,當(dāng)基體金屬出現(xiàn)時(shí),陽(yáng)極電壓發(fā)生變化,并且檢測(cè)到此電壓變化以結(jié)束測(cè)量。(見(jiàn)圖二)

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      電解膜測(cè)厚儀的特點(diǎn)

      • 雖然是破壞型測(cè)量,但可以通過(guò)簡(jiǎn)單的測(cè)量來(lái)測(cè)量,也可以測(cè)量多層電鍍。

      • 可測(cè)量雙鎳、三鎳各層膜厚及電位差

      • 可以分別測(cè)量銅鍍錫時(shí)形成的純錫層和合金層的厚度。

      • 可以測(cè)量 X 射線無(wú)法測(cè)量的厚多層鍍層(最大 300 μm)

      • 通過(guò)使用線測(cè)試儀,可以測(cè)量細(xì)線的電鍍膜厚度。

      使用示例

      • 鍍錫線(鍍錫銅線)純錫層厚度測(cè)量

      • 汽車外飾件用Cr/Ni/Cu三層鍍層測(cè)量,鍍Ni用
        雙鎳/三鎳電位差測(cè)量

      • 與非破壞性薄膜測(cè)厚儀的測(cè)量結(jié)果進(jìn)行交叉檢查

      渦流膜厚儀的測(cè)量原理

      當(dāng)帶有高頻電流的探頭(探頭線圈)靠近金屬時(shí),金屬表面會(huì)產(chǎn)生渦流。
      這種渦流受高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率、金屬的導(dǎo)電性、厚度、形狀等的影響,穿透深度和大小不同。
      然后渦流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng),改變探頭的高頻電阻值。
      這種高頻電阻變化的幅度一般與膜厚值不成正比。
      通過(guò)參考內(nèi)置或用戶創(chuàng)建的特性曲線(校準(zhǔn)曲線)轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值。

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      渦流膜厚檢測(cè)儀的特點(diǎn)

      • 可以測(cè)量幾乎所有金屬上的薄膜(鋁、鋅、鉻等的氧化膜,鐵上的電鍍和油漆)
        或幾乎所有非金屬上的金屬薄膜(塑料上的電鍍等)。

      • 非常適合 100% 檢查,因?yàn)樗梢栽诙虝r(shí)間內(nèi)(1 秒內(nèi))進(jìn)行非破壞性測(cè)量。

      • 也可以測(cè)量曲面、球面、管道內(nèi)表面(φ12.7 mm 或更大)。

      使用示例

      • 樹(shù)脂上鋁薄膜的測(cè)量。示例:應(yīng)用于汽車前照燈反射器的鋁沉積(從 100 nm 開(kāi)始)的質(zhì)量控制。

      • 鋁材上氧化鋁膜厚度的測(cè)量

      • 鐵鍍鋅膜厚測(cè)量(與熒光X射線膜厚儀聯(lián)用)

      • 陶瓷鍍鎳層厚度測(cè)量

      電阻式薄膜測(cè)厚儀的測(cè)量原理

      恒定電流通過(guò)被測(cè)導(dǎo)電物體的規(guī)定截面,在該截面內(nèi)一定距離處產(chǎn)生的電壓被換算成膜厚。
      將四個(gè)引腳(探針)放在印刷電路板上的銅箔上。銅箔的厚度可以通過(guò)向兩個(gè)外部探針施加電流并測(cè)量?jī)蓚€(gè)內(nèi)部探針之間產(chǎn)生的電位差來(lái)獲得。

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      電阻膜厚測(cè)試儀的特點(diǎn)

      • 印刷電路板用銅箔測(cè)厚時(shí),如果銅箔為單層,可用渦流測(cè)厚儀測(cè)厚,無(wú)法測(cè)量。
        電阻法僅在表層施加電流并測(cè)量銅箔的厚度,因此可以不受下層影響而精確測(cè)量。

      使用示例

      • 測(cè)量多層板表面銅箔厚度

      • 非金屬上金屬薄膜的厚度測(cè)量


    聯(lián)系方式
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